[发明专利]基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置在审
| 申请号： | 202110969576.9 | 申请日： | 2021-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN114113100A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 寺泽恒男;稻月判臣;金子英雄 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;刘言 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置，在利用来自被检查基板的散射光的暗视场检查中，能够适当设定确定检测灵敏度的阈值而实现可靠性高的相位缺陷检查。一种基板的缺陷检查方法，具有：在第一聚光光学系统中向被检查基板照射来自EUV光源的EUV光的工序；在第二聚光光学系统中向传感器的受光面引导从被检查基板反射的反射光中的除去正反射光的散射光的工序；当接受的散射光的强度超过规定的阈值时，判断为在被检查基板的EUV光的照射处存在缺陷的工序，该方法具有：反射率获取工序，在向被检查基板照射EUV光之前预先获得被检查基板的EUV光的反射率；阈值运算工序，基于在该反射率获取工序中获得的反射率确定规定的阈值。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检查 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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