[发明专利]金纳米双锥阵列基底及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110962360.X | 申请日： | 2021-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN113777034A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 姚媛媛;郭隆华;王悦靓;陈丽芬;林露;林丙永 | 申请（专利权）人： | 嘉兴学院 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/65 |
| 代理公司： | 杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337 | 代理人： | 沈自军 |
| 地址： | 314001 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种金纳米双锥阵列基底及其制备方法和应用，所述金纳米双锥阵列基底包括基片以及装载于所述基片表面、由金纳米双锥组装形成的薄膜，所述金纳米双锥的表面修饰有亲水性配体和疏水性配体。所述金纳米双锥阵列基底的拉曼信号强，对环丙沙星的选择性高，可检测待测样品中痕量的环丙沙星，应用前景好。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 阵列 基底 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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