[发明专利]一种用于半透明材质渲染的次表面散射计算方法有效
| 申请号： | 202110957086.7 | 申请日： | 2021-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN113674375B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 高阳;梁仕宇;郝爱民;吴洪宇 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00 |
| 代理公司： | 北京唯智勤实知识产权代理事务所(普通合伙) 11557 | 代理人： | 陈佳 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于半透明材质渲染的次表面散射计算方法，涉及到对暴力蒙特卡洛光子追踪实验结果的裁剪处理和多项式拟合，以精确表示次表面散射在距离上的能量衰减。在此基础上，使用平均自由程和单散射率对多项拟合式中各个项进行关系确定，以利于反射剖面的计算和调整。最终通过一种新的实时重要性采样方案，使用蒙特卡洛方法计算物体表面任意点的出射辐射，此重要性采样方案同样适用于其它任何次表面散射计算模型。通过将此次表面散射计算结果与高光反射等其它结果相结合，可对任意半透明材质物体进行精确进而高效的绘制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半透明 材质 渲染 表面 散射 计算方法 | ||
【主权项】：
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