[发明专利]膜有效

专利信息
申请号: 202110940092.1 申请日: 2016-07-13
公开(公告)号: CN113652043B 公开(公告)日: 2023-02-17
发明(设计)人: 金村崇;向井惠吏;硲武史;小谷哲浩;小松信之;仲村尚子;横谷幸治;立道麻有子;桧垣章夫 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C08L27/18 分类号: C08L27/18;C08J5/18;H01G4/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;孟伟青
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种膜,其具有优异的耐热性,低温下的介电常数与高温下的介电常数之差小。一种膜,其特征在于,频率1kHz、30℃下的相对介电常数为8以上,根据下式由频率1kHz、30℃下的相对介电常数A与频率1kHz、150℃下的相对介电常数B计算出的变化率为‑8%~+8%,该膜包含熔点为180℃以上的含氟聚合物,且该含氟聚合物包含全部共聚单元的10摩尔%~49摩尔%的偏二氟乙烯单元。变化率(%)=(B-A)/A×100。
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【主权项】:
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