[发明专利]膜有效
| 申请号： | 202110940092.1 | 申请日： | 2016-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN113652043B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 金村崇;向井惠吏;硲武史;小谷哲浩;小松信之;仲村尚子;横谷幸治;立道麻有子;桧垣章夫 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L27/18 | 分类号： | C08L27/18;C08J5/18;H01G4/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;孟伟青 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种膜，其特征在于，在频率1kHz、30℃下的相对介电常数为8以上，
根据下式由在频率1kHz、30℃下的相对介电常数A与在频率1kHz、150℃下的相对介电常数B计算出的变化率为-8％～+8％，
该膜包含熔点为180℃以上的含氟聚合物，且该含氟聚合物包含全部共聚单元的10摩尔％～49摩尔％的偏二氟乙烯单元，
该膜不包含高介电性无机颗粒，
变化率(％)＝(B－A)/A×100。
2.如权利要求1所述的膜，其中，在频率1kHz、30℃下的相对介电常数为8～12。
3.如权利要求1所述的膜，其中，该膜的厚度为1μm～100μm。
4.如权利要求2所述的膜，其中，该膜的厚度为1μm～100μm。
5.如权利要求1、2、3或4所述的膜，其中，该膜为高介电性膜或压电膜。
6.如权利要求1、2、3或4所述的膜，其中，该膜用于膜电容器、电润湿器件、或压电面板。
7.如权利要求5所述的膜，其中，该膜用于膜电容器、电润湿器件、或压电面板。
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