[发明专利]基于三维照明调制的双物镜单分子荧光显微成像方法和装置在审
| 申请号： | 202110928164.0 | 申请日： | 2021-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN113835207A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;尹禄;孙逸乐;刘旭;李海峰;徐良 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G02B21/00 | 分类号： | G02B21/00;G02B21/06;G02B21/36;G02B27/58;G01N21/64 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 米志鹏 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于三维照明调制的双物镜单分子荧光显微成像装置，包括激发光路模块和成像光路模块，激发光路模块包括依次布置的：激光器，发出激光光束；分束与扫描系统，用于将光束分为独立选通或截止的四束线偏振光，并进行成像位置扫描及改变光程差；双物镜系统，用于将激发光分成对称的两组在像面上干涉并收集荧光；成像光路模块包括依次布置的：相位调制系统，用于将两路荧光按照s和p偏振分为四束干涉光且引入指定的相位延迟；相机，用于收集荧光强度信号；计算机，用于控制分束与扫描系统和相机，改变干涉条纹相位、方向和拍照，并处理采集的数据，得到超分辨图像。本发明还公开一种基于三维照明调制的双物镜单分子荧光显微成像方法。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 三维 照明 调制 物镜 分子 荧光 显微 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
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