[发明专利]沉积掩模以及设置沉积掩模的方法在审
| 申请号： | 202110922916.2 | 申请日： | 2021-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN114075646A | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 李德重;孙智熙;任星淳 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L21/32 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 张晓;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种沉积掩模以及设置该沉积掩模的方法。该沉积掩模包括：掩模膜，包括聚合物；多个第一沉积开口，限定在掩模膜中；以及导电层，在掩模膜上并且接收电力。导电层包括沿着掩模膜彼此间隔开并且彼此电断开的第一导电图案和第二导电图案。导电层在第一导电图案和第二导电图案处接收电力，并且在第一导电图案和第二导电图案处电力的接收提供沉积掩模的静电吸盘功能。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 以及 设置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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