[发明专利]一种硅基可低温烧结的低介高品质因数微波介质陶瓷的制备及应用在审
申请号: | 202110920134.5 | 申请日: | 2021-08-11 |
公开(公告)号: | CN113754419A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 李洁;唐莹;方亮 | 申请(专利权)人: | 桂林理工大学 |
主分类号: | C04B35/16 | 分类号: | C04B35/16;C04B35/622;H01P1/20;H01P7/10;H03H3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 541004 广*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: |
本发明公开了一种硅基可低温烧结的低介高品质因数微波介质陶瓷的制备及应用。(1)将Li |
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搜索关键词: | 一种 硅基可 低温 烧结 低介高 品质因数 微波 介质 陶瓷 制备 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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