[发明专利]一种检测高纯四氟化锗杂质含量的气相色谱系统及方法有效
| 申请号： | 202110911025.7 | 申请日： | 2021-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN113419019B | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 张红潇;普世坤;柴皓茗;尹国文;李正美;罗中旭;吴王昌;熊浩;邵雨萌 | 申请（专利权）人： | 云南大学;云南临沧鑫圆锗业股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/20 | 分类号： | G01N30/20;G01N30/78 |
| 代理公司： | 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 650091*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明属于高纯四氟化锗产品质量检测技术领域，具体公开一种检测高纯四氟化锗中杂质含量的气相色谱系统及方法，包括通过管路相互连接的切换阀系统、载气系统、进样系统、柱系统、尾气处理系统、检测系统，切换阀系统为五个，载气设置6条，进样系统中的两个装样品的定量环连通，可同时完成两个定量环的进样，设置两套分离系统，即用不同的预柱和色谱柱将高纯四氟化锗的不同成分进行分离，分离主成分后杂质气体进入相应的检测系统进行检测，而主成分四氟化锗通过反吹方式，从各个尾气处理口排出，使用本发明的气相色谱系统，进样后控制反吹时间将主要组分四氟化锗利用双反吹+中心切割吹扫出去，提高了其中痕量杂质分析的检出限和结果的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 高纯 氟化 杂质 含量 色谱 系统 方法 | ||
【主权项】：
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