[发明专利]一种减少铜靶材预溅射时间的方法在审
| 申请号： | 202110907393.4 | 申请日： | 2021-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN113579862A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;慕二龙;汪焱斌 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种减少铜靶材预溅射时间的方法，所述方法包括以下步骤：对铜靶材的溅射面依次进行机械加工、一次抛光和二次抛光，所述二次抛光后进行预溅射；所述二次抛光为研磨抛光；所述研磨抛光所用的研磨液包括氧化铝研磨液和/或SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 减少 铜靶材预 溅射 时间 方法 | ||
【主权项】：
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