[发明专利]光学体、原盘、以及光学体的制造方法在审
| 申请号： | 202110873519.0 | 申请日： | 2016-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN113777677A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 林部和弥;梶谷俊一 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人： | 刘昕;孟祥海 |
| 地址： | 日本国东京都品川区大崎*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种防反射特性进一步提高且制作容易的、新的且改良了的光学体、原盘、以及光学体的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的某种观点，提供一种如下的光学体，即，所述光学体具有凹凸构造，其中具有凸形状或凹形状的构造体以可见光波长以下的平均周期排列，构造体具有相对于与光学体的厚度方向垂直的任意一个平面方向而非对称的形状。根据所述观点，防反射特性会进一步提高且制作变得容易。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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