[发明专利]光学体、原盘、以及光学体的制造方法在审

专利信息
申请号: 202110873519.0 申请日: 2016-11-15
公开(公告)号: CN113777677A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 林部和弥;梶谷俊一 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B1/118 分类号: G02B1/118
代理公司: 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 代理人: 刘昕;孟祥海
地址: 日本国东京都品川区大崎*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学体,其具有凹凸构造,其中具有凸形状或凹形状的构造体以可见光波长以下的平均周期排列,

所述构造体具有相对于与所述光学体的厚度方向垂直的任意一个平面方向而非对称的形状。

2.如权利要求1所述的光学体,其特征在于,

俯视观察所述构造体时的形状具有相对于所述一个平面方向而非对称的形状。

3.如权利要求2所述的光学体,其特征在于,

通过沿着所述构造体的排列方向对与所述构造体外接的四边形进行二等分的直线将俯视观察所述构造体时的形状分割成两个区域的情况下,各自的面积不同。

4.如权利要求3所述的光学体,其特征在于,

所述2个区域中、较小的一方的区域的面积除以较大的一方的面积而得到的面积比在0.97以下。

5.如权利要求4所述的光学体,其特征在于,

所述面积比在0.95以下。

6.如权利要求4或5所述的光学体,其特征在于,

所述面积比在0.95以下、0.33以上。

7.如权利要求1至6中任一项所述的光学体,其特征在于,

所述构造体的垂直截面形状具有相对于所述一个平面方向而非对称的形状。

8.如权利要求7所述的光学体,其特征在于,

所述构造体的垂直截面形状的顶点的位置相对于所述构造体的轨道方向的中心点而在所述轨道方向位移。

9.如权利要求8所述的光学体,其特征在于,

所述顶点的位置的位移量除以所述构造体的点距而得到的位移比在0.03以上。

10.如权利要求9所述的光学体,其特征在于,

所述位移比在0.03以上、0.5以下。

11.如权利要求1至10中任一项所述的光学体,其特征在于,

所述构造体的所述一个平面方向上的排列间距与所述凹凸构造的其他平面方向上的排列间距不同。

12.如权利要求1至11中任一项所述的光学体,其特征在于,

所述构造体具有凸形状。

13.如权利要求1至12中任一项所述的光学体,其特征在于,

所述构造体具有凹形状。

14.如权利要求1至13中任一项所述的光学体,其特征在于,

所述构造体由固化性树脂的固化物构成。

15.如权利要求1至14中任一项所述的光学体,其特征在于,

相邻的所述构造体彼此相接。

16.一种原盘,在其表面形成有如权利要求1至15中任一项所述的凹凸构造的翻转形状。

17.如权利要求16所述的原盘,其特征在于,

所述原盘为板状、圆筒形状或圆柱形状。

18.一种光学体的制造方法,其为将权利要求16或17所记载的原盘用作转印模在基材上形成所述凹凸构造。

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