[发明专利]离子氮碳共渗磁场辅助设备、处理系统及方法有效
| 申请号： | 202110872451.4 | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN113604774B | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 何永勇;张哲浩 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C23C8/38 | 分类号： | C23C8/38;C23C8/32;C23C8/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提出了一种离子氮碳共渗磁场辅助设备、处理系统及方法，设备包括：绝缘壳体，适于放置于离子扩渗炉内且位于工件台的下方，绝缘壳体为密闭壳体，用于屏蔽离子扩渗炉内的高压电场；和多个绕线方式相同且沿所述绝缘壳体的周向均布于绝缘壳体内的电磁铁，通过多个电磁铁在离子扩渗炉内形成可控的磁场，以改变金属工件表面电子的运动轨迹和金属工件的磁畴。系统包括：离子扩渗炉、离子氮碳共渗磁场辅助设备、变压器、真空泵、供气瓶和电气控制柜。方法包括控制向炉体内通入含有氮、碳元素的气体，并控制向金属工件提供间断的磁场。本公开可提高离子扩渗炉内的离子体密度，有效增加扩渗层厚度，以此提高扩渗质量。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 氮碳共渗 磁场 辅助 设备 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
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