[发明专利]一种双重曝光的对位方法在审
| 申请号： | 202110863323.3 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113448181A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 王绪胜 | 申请（专利权）人： | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 唐静芳 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种双重曝光的对位方法，该方法包括：对目标物进行一次曝光，以在目标物上形成第一曝光图形，第一曝光图形具有第一对位点；对目标物进行二次曝光，二次曝光基于第一对位点，以在目标物上形成第二曝光图形，第二曝光图形与第一曝光图形重合。通过对目标物进行一次曝光以形成第一曝光图形，在第一曝光图形上设置第一对位点，基于该第一对位点对该目标进行二次曝光并形成第二曝光图形，以使得第二曝光图形与第一曝光图形重合。该对位方法快速准确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双重 曝光 对位 方法 | ||
【主权项】：
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