[发明专利]一种双重曝光的对位方法

说明书

本发明涉及一种双重曝光的对位方法，该方法包括：对目标物进行一次曝光，以在目标物上形成第一曝光图形，第一曝光图形具有第一对位点；对目标物进行二次曝光，二次曝光基于第一对位点，以在目标物上形成第二曝光图形，第二曝光图形与第一曝光图形重合。通过对目标物进行一次曝光以形成第一曝光图形，在第一曝光图形上设置第一对位点，基于该第一对位点对该目标进行二次曝光并形成第二曝光图形，以使得第二曝光图形与第一曝光图形重合。该对位方法快速准确。

技术领域

本申请涉及一种双重曝光的对位方法。

背景技术

目前的显示技术中，对制备工艺的精确度越来越高，光刻是显示技术工艺过程中的必须环节。该环节中通常会结合有多重曝光方式进行曝光，而多重曝光中最重要的则是使得多重曝光的图形重合。目前的彩膜基板，在玻璃基板内侧设置有对位标记，如BM Mark，则在玻璃基板两侧形成图案时，通过外部曝光的方式，将内侧设置的BM Mark作为曝光机识别的对准点进行曝光，但由于玻璃基板较厚，曝光机的对焦形成小于玻璃基板的厚度，使得较难对焦该内侧的对位标记，导致对准失败。

发明内容

本发明的目的在于提供一种快速、准确的双重曝光的对位方法。

为达到上述目的，本发明提供如下技术方案：一种双重曝光的对位方法，所述方法包括：

对目标物进行一次曝光，以在所述目标物上形成第一曝光图形，所述第一曝光图形具有第一对位点；

对所述目标物进行二次曝光，所述二次曝光基于所述第一对位点，以在所述目标物上形成第二曝光图形，所述第二曝光图形与所述第一曝光图形重合。

进一步地，所述“所述二次曝光基于所述第一对位点，以在所述目标物上形成第二曝光图形”具体为：

在所述二次曝光中，曝光机的透镜上具有第二对位点，曝光机的光源通过所述第二对位点形成的投影与所述第一对位点重合；

在所述目标物上形成所述第二曝光图形。

进一步地，所述方法还包括：

在所述一次曝光中，所述曝光机的透镜与所述目标物之间具有制图格网，所述曝光机的光源通过所述透镜和所述制图格网，在所述目标物上形成格网，所述第一曝光图形基于所述格网排序。

进一步地，所述“所述二次曝光基于所述第一对位点，以在所述目标物上形成第二曝光图形”具体为：

在所述二次曝光中，曝光机识别所述第一对位点，以使得所述曝光机的光源通过所述透镜形成的第二曝光图形与所述第一曝光图形重合。

进一步地，所述方法还包括：

在所述一次曝光中，所述透镜上设置有形成所述第一对位点的标记点。

进一步地，所述方法还包括：

所述第一对位点形成在所述第一曝光图形的边侧。

本发明的有益效果在于：通过对目标物进行一次曝光以形成第一曝光图形，在第一曝光图形上设置第一对位点，基于该第一对位点对该目标进行二次曝光并形成第二曝光图形，以使得第二曝光图形与第一曝光图形重合。该对位方法快速准确。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1为本发明所示的Stepper曝光机的曝光方式的示意图；

图2为图1所示的Stepper曝光机在目标物上依次曝光的示意图；

图3为本发明所示的Aligner曝光机的曝光方式的示意图；