[发明专利]一种晶圆抛光装置有效

专利信息
申请号: 202110858647.8 申请日: 2021-07-28
公开(公告)号: CN113427373B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 贺贤汉;佐藤泰幸;原英樹;杉原一男 申请(专利权)人: 上海申和投资有限公司
主分类号: B24B27/00 分类号: B24B27/00;B24B29/02;B24B47/12;B24B47/16;B24B47/20;B24B53/007;B24B55/06;B24B55/12
代理公司: 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) 34105 代理人: 李坤
地址: 201900 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了存储器件生产技术领域的一种晶圆抛光装置,该发明中通过设置中空连接杆、复位弹簧、挤压板、扭簧和清理板,当中空连接板继续向右转动时,抛光盘与清理板接触,并在抛光盘横向挤压的作用,使清理板向右转动,对晶圆表面进行率先清理,保证晶圆表面的整洁,避免晶圆表面留有废料,提高抛光精度,同时抛光盘开始对晶圆表面进行抛光,推动板沿着挤压板底端的平行面运动,保证抛光的稳定性,当结束对晶圆表面进行抛光后,在复位弹簧的作用下,抛光盘向上运动,脱离晶圆表面,同时在扭簧的作用下,清理板复位并作用在抛光后的晶圆表面,对其表面进行清理,保证晶圆表面的整洁,为下次抛光做准备,提高抛光精度。
搜索关键词: 一种 抛光 装置
【主权项】:
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