[发明专利]一种用于脉冲电场消融设备的双MCU控制系统在审
| 申请号： | 202110852555.9 | 申请日： | 2021-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN113558760A | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 余星;杨家洋;党军;张娟凤;朱云刚;陈文海;张奎 | 申请（专利权）人： | 上海玄宇医疗器械有限公司 |
| 主分类号： | A61B18/18 | 分类号： | A61B18/18 |
| 代理公司： | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人： | 郑立 |
| 地址： | 202210 上海市浦东新区中国(上海)自*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于脉冲电场消融设备的双MCU控制系统，包括主MCU电路、备MCU电路、电源供电模块、信号采集电路、功率输出控制电路、脉冲消融导管和人机接口模块，主MCU电路控制功率输出控制电路将功率脉冲信号输出至脉冲消融导管；信号采集电路包括功率脉冲信号采集单元，用于采集功率脉冲信号的电压和电流信号并将处理好的功率脉冲信号输出至备MCU电路；备MCU电路接收信号采集电路的输出信号，并计算脉冲消融导管在施加对象部位的等效阻抗，定期上传计算数值以及异常中断情况至主MCU电路。本发明降低了通讯频次的要求，减小了主MCU的反应时间，以最小成本及最简电路最大限度地满足了高效、高速、稳定可靠的电路需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 脉冲 电场 消融 设备 mcu 控制系统 | ||
【主权项】：
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