[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审
| 申请号： | 202110811133.7 | 申请日： | 2021-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN114068278A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 舆水地盐 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明所公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承器、高频电源及偏置电源。高频电源向高频电极供给高频电力。偏置电源向偏置电极施加电偏置。搭载于基板支承器上的边缘环接收电偏置的一部分或其他电偏置。外圈相对于边缘环在径向上且在外侧延伸，接收高频电力的一部分。高频电力的功率电平在电偏置的各周期内，与电偏置同步变更。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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