[发明专利]一种LPCVD炉管在线清洗方法在审

专利信息
申请号: 202110797411.8 申请日: 2021-07-14
公开(公告)号: CN113680767A 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 梁笑;林佳继;刘群;张武;庞爱锁 申请(专利权)人: 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
主分类号: B08B9/027 分类号: B08B9/027;B08B9/032
代理公司: 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 代理人: 董世博;卓彩霞
地址: 518118 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种一种LPCVD炉管在线清洗方法,包括以下步骤:将炉管炉门封闭,检查真空,确认机台真空度,然后升温;通入N2,升温至350‑700℃稳定,然后停止通入氮气,同时控制系统压力处于100mtorr‑1000mtorr的压力范围下;进气口通入无机非金属氟化物气体;关闭无机非金属氟化物气体进气阀门,同时通入氮气赶走未完全反应的前驱体以及反应生成物;通入氮气,回压,然后炉管降温;待炉管内压力接近大气压时,打开炉门清洗完成。本发明的在线清洗方法能够用于清洗LPCVD设备工艺过程中沉积在炉管内壁的非晶硅、氮化硅,二氧化硅等薄膜。操作简便,随时可以对反应管进行清洗处理,效果显著,灵活性强,能够有效克服湿法清洗的缺点。
搜索关键词: 一种 lpcvd 炉管 在线 清洗 方法
【主权项】:
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