[发明专利]一种透明二氧化硅增透膜镀膜工艺有效

专利信息
申请号: 202110782331.5 申请日: 2021-07-12
公开(公告)号: CN113493311B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 丁庆峰 申请(专利权)人: 浙江鼎梓塑胶科技股份有限公司
主分类号: C03C17/25 分类号: C03C17/25;C03C15/00;C08G83/00;G02B1/11
代理公司: 杭州运酬专利代理事务所(特殊普通合伙) 33429 代理人: 王叶娟
地址: 322003 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及光学改性领域,尤其涉及一种透明二氧化硅增透膜镀膜工艺,包括以下步骤:(S.1)通过溶液法对玻璃表面进行腐蚀,形成微纳孔洞;(S.2)制备超支化有机硅预聚物,并将其通过溶胶‑凝胶法制备形成透明硅溶胶;(S.3)将步骤(1)中腐蚀后的玻璃浸渍于透明硅溶胶中,通过提拉法在其表面形成一层含硅薄膜;(S.4)将附有含硅薄膜的玻璃进行热处理,得到二氧化硅增透膜;其中,步骤(S.2)中所述的超支化有机硅预聚物的中心处为聚硼硅氧烷结构,其外部支链的端部含有烷氧基硅烷结构和磺酸基结构。本发明中的镀膜工艺具有镀膜效果、镀膜光学以及耐磨性好的优点。
搜索关键词: 一种 透明 二氧化硅 增透膜 镀膜 工艺
【主权项】:
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