[发明专利]质谱中的峰宽估计在审
| 申请号: | 202110777996.7 | 申请日: | 2021-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN113916969A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
| 发明(设计)人: | 托比亚斯·博斯坎普 | 申请(专利权)人: | 布鲁克·道尔顿有限及两合公司 |
| 主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;G06F17/15;G06F17/18 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张娜;李荣胜 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本公开涉及一种用于处理质谱的方法,包括:(i)提供包含多个数据对的质谱,每个数据对代表质量标度或质量相关标度上的质量值或质量相关值以及与相应质量值或质量相关值关联的丰度值或丰度相关值;(ii)在质量标度或质量相关标度上选择多个区间,每个区间包含大量所述数据对;(iii)对于每个区间,将第一数学统计分析应用到包含在相应区间中的所述数据对,以推导出区间特定的峰宽;以及(iv)使用所述区间特定的峰宽来确定质量标度或质量相关标度上的每个质量值或质量相关值的估计的峰宽。 | ||
| 搜索关键词: | 中的 估计 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于布鲁克·道尔顿有限及两合公司,未经布鲁克·道尔顿有限及两合公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110777996.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:后处理3D打印部件
- 下一篇:显示设备及其制造方法





