[发明专利]一种钨化学机械抛光液及其应用有效
| 申请号： | 202110775237.7 | 申请日： | 2021-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN113583572B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 王瑞芹;卫旻嵩;卞鹏程;崔晓坤;王庆伟;李国庆;徐贺 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;C23F3/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钨化学机械抛光液及其应用，所述抛光液包括二氧化硅磨料、硝酸铁、氧化剂、有机酸、表面活性剂和水，其中，所述二氧化硅磨料具有较高的表面粗糙度，且被多胺基聚合物包覆。本发明钨抛光液的磨料被多胺基聚合物包覆，通过多胺基聚合物的质子化和去质子化可逆反应，可以达到pH缓冲的目的，避免因pH局部改变而导致表面抛光不均匀，提高抛光的全局平整度。另外，与含未经改性磨料的抛光液相比，本发明抛光液的胶体稳定性明显提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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