[发明专利]一种基于F-P腔的光源相对强度噪声抑制装置有效
| 申请号： | 202110757115.5 | 申请日： | 2021-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN113532413B | 公开（公告）日： | 2023-08-04 |
| 发明（设计）人： | 陈杏藩;刘一石 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01C19/72 | 分类号： | G01C19/72 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 林超 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于F‑P腔的光源相对强度噪声抑制装置。宽谱光源输出光经光隔离器、2×2光耦合器后到保偏光纤，再依次经过光环形器、偏振旋转器、光环形器到第一光纤反射薄膜中反射和透射；透射光输出，反射光逆反后依次经过光环形器、光放大器、光环形器、保偏光纤、2×2光耦合器后分别耦合到光隔离器和第二光纤反射薄膜中，耦合到光隔离器的光耗散掉，耦合到第二光纤反射薄膜的光再反射和透射；透射光耗散掉，反射光重新返回耦合到2×2光耦合器中，不断往复实现光源光输出和相对强度噪声抑制。本发明在降低了特定频率下光源相对强度噪声的同时，缩短了谐振腔所利用的光纤长度，减少Sagnac干涉仪在光谱滤波后相对强度噪声降低的频率的探测噪声。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光源 相对 强度 噪声 抑制 装置 | ||
【主权项】：
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