[发明专利]一种硅烷处理剂的制备方法在审
申请号: | 202110754374.2 | 申请日: | 2021-07-05 |
公开(公告)号: | CN113463076A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 孙皋飞 | 申请(专利权)人: | 合肥蓝海新材料有限公司 |
主分类号: | C23C22/42 | 分类号: | C23C22/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种硅烷处理剂的制备方法,包括以下步骤:S1,在混合桶内加入5‑20重量份的硅烷偶联剂和50‑80重量份的去离子水,混合搅拌均匀,直至完全水解;S2,再加入1‑5重量份的植酸,并进行边添加边搅拌,不断搅拌15‑20分钟,搅拌速度为1700r/min;S3,再加入5‑15重量份的硝酸钠,充分搅拌,直至溶液呈现澄清透明状态,可制得A液;S4,将5‑12重量份的水解稳定剂、2‑8重量份的钼酸钠以及0.5‑1重量份的苯并三氮唑加入到50‑80重量份的去离子水中,充分搅拌混合,可制得B液。本发明无有害重金属离子,不含磷,环保节能,同时无需加温,硅烷处理剂在生产过程中不产生沉渣,有利于对环境的保护。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅烷 处理 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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