[发明专利]一种中空纳米碗状结构的制备方法与纳米材料及应用有效

专利信息
申请号: 202110754351.1 申请日: 2021-07-02
公开(公告)号: CN113512708B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 赵晓宇;温嘉红;毛德源;张永军;王雅新 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/20;C23C14/58;B22F1/054;B22F1/18;B01J23/52;B01J23/72;B01J35/02;B01J37/34;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种中空纳米碗状结构的制备方法与纳米材料及应用,首先通过磁控溅射以及等离子刻蚀刻蚀得到了中空铜纳米碗结构,通过光照射在中空铜纳米碗上,能够加强吸附分子与金属表面之间的化学相互作用,包括化学键增强、表面杂化的共振增强、声子诱导电荷转移增强等,来加强催化性能。本发明中的复合纳米结构长在硅片上,通过照射在复合结构上的光,激发复合结构上局域表面等离激元,通过金属局域表面等离激元激发出的热电子、热空穴以及化学能,来加快纳米结构中电荷的转移,从而提高催化的效率,通过金和铜的表面等离激元效应,加强了CO2的催化。制备成本较低,制备工艺较简单,能够有效的被大规模复制应用。
搜索关键词: 一种 中空 纳米 结构 制备 方法 材料 应用
【主权项】:
暂无信息
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