[发明专利]基于多成像投影架构的光学卷积计算系统及方法在审
| 申请号： | 202110742313.4 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN115564037A | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 周常河;余俊杰;马国庆 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G06N3/067 | 分类号： | G06N3/067;G06F17/15;G06F17/16 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于多成像投影架构的光学卷积计算系统及方法，包括：光源阵列模块，对输入的光学信号加载卷积核矩阵信息，得到携带卷积核矩阵信息的光学信号；成像投影模块，对携带卷积核矩阵信息的光学信号生成不同衍射级次的光学信号并输出至信号调制模块；信号调制模块，加载输入矩阵信息，将卷积核矩阵信息与输入矩阵信息进行乘法操作，得到两个矩阵信息在不同位置的对应元素的相乘信息；探测模块，将携带相乘信息的光学信号进行会聚，对相乘信息的求和操作，得到卷积结果矩阵信息。本发明实现大规模、高精度、全并行的光计算的新技术路线，为满足人工智能、神经网络图像处理等任务对海量卷积运算的需求提供了通用的、高效的解决方案。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 成像 投影 架构 光学 卷积 计算 系统 方法 | ||
【主权项】：
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