[发明专利]增透膜及其制备方法和光学元件在审
| 申请号： | 202110731658.X | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN113336450A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 刘勇;陈小群;朱斌 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技（长沙）有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 宋南 |
| 地址： | 410100 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种增透膜及其制备方法和光学元件。增透膜，包括基材以及依次层叠设置在所述基材表面的第一二氧化硅层、高/低折射率材料混合层、五氧化二铌层和第二二氧化硅层。增透膜的制备方法，包括：通过磁控溅射法依次在所述基材的表面镀覆所述第一二氧化硅层、所述高/低折射率材料混合层、所述五氧化二铌层和所述第二二氧化硅层。光学元件，包括所述的增透膜。本申请提供的增透膜，在400nm‑700nm透过率高，膜层数量少、膜厚度薄，加工效率高、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 增透膜 及其 制备 方法 光学 元件 | ||
【主权项】：
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