[发明专利]以带电粒子束系统进行高速热点或缺陷成像在审
| 申请号： | 202110702644.5 | 申请日： | 2016-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN113436954A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | H·萧;C·马厄 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/26 | 分类号： | H01J37/26;H01J37/06;H01J37/147;H01J37/20;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请实施例涉及以带电粒子束系统进行高速热点或缺陷成像。一种检验工具包含控制器，所述控制器经配置以产生电子束的扫描模式以使晶片上的所关注区域成像。所述扫描模式最小化所述电子束在所述晶片的表面上所述所关注区域之间的驻留时间。可基于所述所关注区域选择至少一个载物台速度及至少一个光栅模式。所述控制器发送指令到电子束光学器件，以使用所述扫描模式将所述电子束引导于所述晶片的所述表面上所述所关注区域处。 | ||
| 搜索关键词： | 带电 粒子束 系统 进行 高速 热点 缺陷 成像 | ||
【主权项】：
暂无信息
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