[发明专利]用于薄膜沉积的第5族金属化合物和使用该化合物形成含第5族金属的薄膜的方法在审
| 申请号： | 202110693956.4 | 申请日： | 2021-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN113943321A | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 李太荣;池成俊;白善英 | 申请（专利权）人： | EGTM有限公司 |
| 主分类号： | C07F9/00 | 分类号： | C07F9/00;C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
根据本公开的实施方案的第5族金属化合物由以下化学式1和化学式2中的任一个表示： |
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| 搜索关键词： | 用于 薄膜 沉积 金属 化合物 使用 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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