[发明专利]具有均匀窗口的CMP抛光垫在审

专利信息
申请号: 202110690687.6 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN113829232A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: M·E·古兹曼;N·A·瓦斯克斯;M·R·加丁科;M·E·米尔斯 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
主分类号: B24B37/20 分类号: B24B37/20;B24B37/24;B24B37/26;B24B37/013
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 乐洪咏;陈哲锋
地址: 美国特*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于化学机械抛光的抛光垫包括:抛光部分,所述抛光部分具有顶部抛光表面并且包含抛光材料;开口,所述开口穿过所述抛光垫;以及透明窗口,所述透明窗口在所述抛光垫中的所述开口内,所述透明窗口被固定到所述抛光垫、并且对磁信号和光学信号中的至少一种是透明的,所述透明窗口具有厚度和顶部表面,所述顶部表面具有被相互连接的凹陷分开的多个元件,以在所述顶部表面中提供包括凹陷的图案,以便改善抛光期间向抛光垫中的空腔内的挠曲。
搜索关键词: 具有 均匀 窗口 cmp 抛光
【主权项】:
暂无信息
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