[发明专利]场效应晶体管及制备方法、逻辑门操作实现方法在审

专利信息
申请号: 202110678712.9 申请日: 2021-06-18
公开(公告)号: CN113594259A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 王振兴;王俊俊;王峰;何军 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/24;H01L21/34;H03K19/20
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 谢志超
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种场效应晶体管及制备方法、逻辑门操作实现方法,通过使用α‑In2Se3纳米片形成沟道区,利用α‑In2Se3受电压控制可以改变面内和面外的铁电极化特性,控制栅极和漏极至少一端的输入电压,可以改变沟道区的阻态来调节源极的输出电流,以根据该输出电流实现逻辑门操作。因此,使用本发明提供的单一的场效应晶体管,就能够实现多种逻辑门操作,这与利用传统的场效应晶体管实现逻辑门操作相比,本发明提供的场效应晶体管器件结构简单,尺寸更小。
搜索关键词: 场效应 晶体管 制备 方法 逻辑 操作 实现
【主权项】:
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