[发明专利]一种磁场屏蔽片及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110657511.0 申请日: 2021-06-12
公开(公告)号: CN113388721B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 张华;王湘粤;曾志超;李准;马春博;李豪滨 申请(专利权)人: 深圳市驭能科技有限公司
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H05K9/00;C21D1/74;C21D6/00
代理公司: 广州市科丰知识产权代理事务所(普通合伙) 44467 代理人: 罗啸秋
地址: 518122 广东省深圳市坪山区龙田街道办*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于无线充电技术领域,公开了一种磁场屏蔽片及其制备方法和应用。所述制备方法包括如下制备步骤:(1)将纳米晶带材在惰性气氛下进行热处理;(2)对步骤(1)热处理后的纳米晶带材进行碎磁处理;(3)对步骤(2)碎磁处理后的纳米晶带材进行气氛氧化处理,所述气氛氧化处理采用40~120℃及80%~95%湿度条件下的湿热空气气氛熟化处理,得到所述磁场屏蔽片。本发明方法采用40~120℃及80%~95%湿度条件下的湿热空气气氛熟化处理的气氛氧化工艺,可优先在碎化后的纳米晶带材缝隙生成氧化绝缘层,在提升电阻降低涡流损耗的同时,显著改善氧化处理后磁场屏蔽片的均匀性及稳定性。
搜索关键词: 一种 磁场 屏蔽 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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