[发明专利]使用由内向外跟踪的电磁场畸变校正在审
| 申请号： | 202110652638.3 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113796958A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 马克·罗伯特·施奈德;亚历克·杜灵;西阿姆帕拉萨德·卡尔亚图帕拉姆比尔·拉贾戈帕兰 | 申请（专利权）人： | 阿森松技术公司 |
| 主分类号： | A61B34/20 | 分类号： | A61B34/20;A61B5/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘瑜 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 磁跟踪设备被配置为通过接收针对环境中的磁跟踪设备的位置的非磁信号的测量和磁信号的对应测量来跟踪环境中的对象。磁跟踪设备基于非磁信号的测量来针对该位置估计在环境中的磁跟踪设备的非磁姿态。该设备基于磁信号的测量来针对该位置估计在环境中的磁跟踪设备的磁姿态。该设备确定针对该位置的磁姿态估计与非磁姿态估计之间的差异。该设备基于该差异来确定针对该位置的磁畸变校正值。磁跟踪设备生成包括畸变值的畸变校正模型，并且输出畸变校正模型的表示。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 向外 跟踪 电磁场 畸变 校正 | ||
【主权项】：
暂无信息
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