[发明专利]一种提高激光陀螺仪刻度因数长期稳定性的方法有效
| 申请号： | 202110649568.6 | 申请日： | 2021-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN113418521B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 梁浩;何川 | 申请（专利权）人： | 北京航天时代激光导航技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G01C19/72 | 分类号： | G01C19/72;G01C25/00 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 刘秀祥 |
| 地址： | 100094 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种提高激光陀螺仪刻度因数长期稳定性的方法，将涵盖激光陀螺仪全部工作范围温度进行分段，建立分段后的矩阵模型，采用全温下标定流程和补偿流程，确定参数阵数值，并在后续的使用中，对模型进行自动分段补偿，以补偿由于腔长控制执行机构带来的性能退化造成的模型性能退化问题，分段后的模型以及分段补偿的方式，使模型能够更好的适应全温环境下工作，而不必区分不同使用环境下陀螺仪的标定工艺问题，统一了工艺方法，同时分段补偿和建模的方式较采用单条曲线拟合的方法，精度更高，且避免了由于某个温度段补偿带来的其他温度误差变大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 激光 陀螺仪 刻度 因数 长期 稳定性 方法 | ||
【主权项】：
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