[发明专利]多阶二维光栅结构及其制造方法、光波导装置和AR设备在审

专利信息
申请号: 202110600711.2 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN115480329A 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 徐钦锋;马珂奇;杜佳玮 申请(专利权)人: 宁波舜宇光电信息有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B6/00;G02B27/01
代理公司: 北京方迪誉诚专利代理有限公司 11808 代理人: 邓斐;宣力伟
地址: 315400 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及多阶二维光栅结构及其制造方法、光波导装置和AR设备。所述多阶二维光栅结构具有阵列组,其包括:多个第一柱体,其设置在基板的表面上并排列成二维周期阵列,其中每一个第一柱体具有彼此相对的顶面和底面,所述底面位于所述基板的表面上;以及多个第二柱体,其分别设置在各自对应的第一柱体的顶面上,其中每一个第二柱体具有彼此相对的顶面和底面,所述第二柱体的底面被包含在对应的第一柱体的顶面内,并且所述第二柱体的底面形状不同于对应的第一柱体的底面形状。所述多阶二维光栅结构可应用于波导片、AR设备等,从而具有有效减少现有波导片中存在的指向世界侧的漏光能量损失,提升波导片的能量利用率,降低信息泄露风险等优势。
搜索关键词: 二维 光栅 结构 及其 制造 方法 波导 装置 ar 设备
【主权项】:
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