[发明专利]一种线圈结构及等离子体加工设备在审
| 申请号： | 202110591137.9 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN113838736A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 赵晋荣;张郢;陈星;韦刚;牛晨;许金基;王松 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01F5/00;H01F5/04 |
| 代理公司： | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人： | 王献茹 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种线圈结构，包括至少一组线圈组；线圈组包括第一线圈和第二线圈，第一线圈和第二线圈缠绕形成环形区域，第一线圈的第一端和第二线圈的第一端均逐渐靠近环形区域的内环，第一线圈的第二端和第二线圈的第二端均逐渐靠近环形区域的外环；第一线圈的第一端与第二线圈的第一端电连接；第一线圈在垂直于线圈结构的轴向的平面形成第一投影，第二线圈在垂直于线圈结构的轴向的平面形成第二投影，且第一投影与第二投影镜像对称。该线圈结构能够产生左右对称分布的电磁场，进而实现形成分布均匀的等离子体，有效提高半导体的刻蚀质量和刻蚀效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 线圈 结构 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
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