[发明专利]气相沉积设备和气相沉积方法在审
| 申请号： | 202110586355.3 | 申请日： | 2021-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN113737150A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 柳成龙;金京汉;劝炯斗;郑钟桓;崔庆五;崔承浩 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;冯志云 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及气相沉积设备和气相沉积方法。所述气相沉积设备包括：载体，在所述载体上安置有基底；沉积腔室，在所述沉积腔室中执行用于将沉积材料沉积到所述基底的沉积工艺；第二腔室，在所述第二腔室中搬运所述载体，在所述载体上安置有完成了所述沉积工艺的所述基底；以及第一腔室，包括机械臂，所述机械臂在真空状态下将完成了所述沉积工艺的所述基底与所述载体分离开以从所述第二腔室传送到所述第一腔室，其中，所述第二腔室始终保持真空状态。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 和气 方法 | ||
【主权项】：
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