[发明专利]基于光弹调制技术的半导体材料应力测量系统及方法在审

专利信息
申请号: 202110584849.8 申请日: 2021-05-27
公开(公告)号: CN113340810A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 彭海鲸 申请(专利权)人: 彭海鲸
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/23
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 吴轶淳
地址: 200127 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及电子设备控制技术领域,尤其涉及一种基于光弹调制技术的半导体材料应力测量系统,包括依次排列的激光光源、至少一片反射镜、通孔、起偏器、光弹调制器、第一波片、被测样品、第二波片、检偏器、红外探测器;激光光源发射的激光光束经过至少一片反射镜导入到测量光路,起偏器将激光光束转换成线偏振光,激光光束经过光弹调制器再转换成从线偏振光到圆偏振光连续来回切换的调制偏振光,调制偏振光经过被测样品形成的双折射信号,红外探测器将双折射信号转换为电信号,通过测量电路传输到计算机中处理。本发明的有益效果:该系统不仅克服了其它基于光弹调制方法对被测样品应力大小的要求,而且系统中的被测样品无需转动。
搜索关键词: 基于 调制 技术 半导体材料 应力 测量 系统 方法
【主权项】:
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