[发明专利]一种提高ITO平面靶材利用率的垫烧方法在审
| 申请号： | 202110579657.8 | 申请日： | 2021-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN113372123A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 曾探;王志强;盛明亮;石煜;曾墩风;陶成 | 申请（专利权）人： | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/64 | 分类号： | C04B35/64;C04B35/457;C23C14/35;F27B17/00;F27D7/06 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市中国（安徽）自*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种提高ITO平面靶材利用率的垫烧方法，先将氧化锡粉先放置到能承受1800°C的高温容器中，并将其放置到氧气气氛常压炉内煅烧，得到氧化锡粉；之后将氧化铝垫片间隔平铺在承烧板上；最后将氧化锡粉通过不锈钢筛格进行均匀洒落在氧化铝垫片上，并将ITO平面靶材进行放置后垫烧；采用第一次煅烧和第二次垫烧的方式来对ITO平面靶材进行生产，使其不与氧化锡粉容易产生反应；并且使用氧化锡粉末和纯度大于95%的氧化铝垫片，从而提高了生产的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 ito 平面 利用率 方法 | ||
【主权项】：
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