[发明专利]光刻胶中金属离子的纯化方法在审
| 申请号： | 202110574015.9 | 申请日： | 2021-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN115390361A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 李嫕;张卫杰;陈金平;于天君;曾毅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 谢蓉;谢怡婷 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于材料技术领域，具体涉及一种光刻胶中金属离子的纯化方法。所述光刻胶中金属离子的纯化方法只需将含有巯基官能团的固体吸附剂与光刻胶混合，通过物理搅拌或者震荡的方式使其接触一定时间，即可达到较好的纯化效果。光刻胶为液体，只需简单的物理分离，就可以将含有巯基官能团的固体吸附剂和光刻胶分离。使用后的含有巯基官能团的固体吸附剂经过酸处理、碱处理、水洗和干燥处理后，便可再重复利用，含有巯基官能团的固体吸附剂的吸附量在重复使用十次时仍能高于90％。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 金属 离子 纯化 方法 | ||
【主权项】：
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