[发明专利]离子源装置及其使用方法和真空处理系统在审
| 申请号： | 202110541731.7 | 申请日： | 2021-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN115376873A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 胡冬冬;李晓磊;张瑶瑶;刘小波;石小丽;张怀东;陈璐;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/304;H01J37/305 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 徐尔东 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种离子源装置及其使用方法和真空处理系统，装置包括一个核心的放电腔，其封闭端呈凹字形设置，沿着放电腔布设四组放电线圈，还包括为放电线圈提供射频功率的射频电源、射频匹配器，用来将功率分配至四组放电线圈的功率分配器，离子栅网系统为离子栅网提供电压的直流电源，中和器以及用于总体控制离子源运行的离子源控制器；放电腔与放电线圈组合在整个放电腔内部形成四个等离子体放电区域，通过组合不同的等离子放电区域，在不同的放电线圈上加载不同的射频功率来实现从放电腔轴心沿径向向外的不同位置的等离子密度；本申请通过调节功率分配实现放电腔内离子体密度的改变，进而保证离子束刻蚀工艺的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 装置 及其 使用方法 真空 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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