[发明专利]一种无晶圆等离子腔室的清洗方法在审
| 申请号： | 202110478675.7 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN115274388A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 张卓民;苏兴才;李涵 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 贾慧琴;包姝晴 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明公开了一种无晶圆等离子腔室的清洗方法，其包含执行预定次数的循环，该循环包含以下步骤：氧清洗：在第一功率下，向等离子腔室内通入O |
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| 搜索关键词： | 一种 无晶圆 等离子 清洗 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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