[发明专利]用于光电器件的制冷系统及其制作方法有效
申请号: | 202110409768.4 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN112993066B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 陈柳平;张建;付仁清;金燕;万相奎 | 申请(专利权)人: | 国开启科量子技术(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L31/024 | 分类号: | H01L31/024;H01L35/32;H01L35/34;H01L25/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100193 北京市海淀区西北旺东路*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开的用于光电器件的制冷系统包括制冷装置和多个光电器件,第一至N个制冷模块从上至下依次放置在一起,第一个制冷模块包括第一晶粒阵列和热沉,第一晶粒阵列通过设置于热沉下表面的铜电极阵列,固定设置于热沉的下表面,第一晶粒阵列与热沉一体成型,第一晶粒阵列的分布状态与设置于铜电极阵列的分布状态一致,第二个制冷模块包括第一陶瓷基片、第二晶粒阵列,以此类推,第N个制冷模块包括第N‑1陶瓷基片、第N晶粒阵列、第N陶瓷基片,其中,第N晶粒阵列固定设置于第N‑1陶瓷基片与第N陶瓷基片之间,提高了制冷装置的制冷效果、稳定性及适用性。另外,本发明还公开了一种制作用于光电器件的制冷装置的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 光电 器件 制冷系统 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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