[发明专利]用于光电器件的制冷系统及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202110409768.4 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN112993066B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 陈柳平;张建;付仁清;金燕;万相奎 申请(专利权)人: 国开启科量子技术(北京)有限公司
主分类号: H01L31/024 分类号: H01L31/024;H01L35/32;H01L35/34;H01L25/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100193 北京市海淀区西北旺东路*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开的用于光电器件的制冷系统包括制冷装置和多个光电器件,第一至N个制冷模块从上至下依次放置在一起,第一个制冷模块包括第一晶粒阵列和热沉,第一晶粒阵列通过设置于热沉下表面的铜电极阵列,固定设置于热沉的下表面,第一晶粒阵列与热沉一体成型,第一晶粒阵列的分布状态与设置于铜电极阵列的分布状态一致,第二个制冷模块包括第一陶瓷基片、第二晶粒阵列,以此类推,第N个制冷模块包括第N‑1陶瓷基片、第N晶粒阵列、第N陶瓷基片,其中,第N晶粒阵列固定设置于第N‑1陶瓷基片与第N陶瓷基片之间,提高了制冷装置的制冷效果、稳定性及适用性。另外,本发明还公开了一种制作用于光电器件的制冷装置的方法。
搜索关键词: 用于 光电 器件 制冷系统 及其 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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