[发明专利]真空管道用的磁场移动式镀膜设备及方法有效
| 申请号： | 202110403793.1 | 申请日： | 2021-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113174581B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 贺华艳;刘磊;王鹏程;黄涛 | 申请（专利权）人： | 散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广东众达律师事务所 44431 | 代理人： | 张雪华 |
| 地址： | 523808 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区总部*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种真空管道用的磁场移动式镀膜设备及方法，其设备包括机架、升降平台机构和磁铁组件，磁铁组件中部设有第一通孔，机架上固定安装有至少一个位于第一通孔内的真空管道，磁铁组件安装于升降平台机构上，升降平台机构安装于机架上；升降平台机构带动磁铁组件进行升降运动。其方法是将内置有靶源组件的真空管道固定安装于机架上，真空管道分段形成多个镀膜工位，磁铁组件在真空管道外周进行升降运动，按照由上至下或由下至上的方式逐个停留在对应的镀膜工位上，为真空管道的镀膜提供磁场作用。本发明可在不需要重新拆装或增设磁铁组件的情况下，实现不同长度或多根真空管道同时进行镀膜处理，且镀膜效果均匀，工作效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 管道 磁场 移动式 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
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