[发明专利]一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺在审
| 申请号： | 202110401418.3 | 申请日： | 2021-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN114605071A | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 路雪飞;王晓亮 | 申请（专利权）人： | 焕澄（上海）新材料科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;H01L31/048;H01L31/049;H01L31/054 |
| 代理公司： | 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 | 代理人： | 汤俊明 |
| 地址： | 201100 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺，其制备原料及重量份包括：水性溶剂10‑30份，无机色浆30‑40份，无机链接料30‑40份，添加剂5‑25份，气相二氧化硅0‑0.5份，本发明所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，通过加入低熔点玻璃粉和气相二氧化硅，增加了玻璃釉料与玻璃之间的附着力；水性分散剂，气相二氧化硅和增稠剂的加入，提高了玻璃釉料的稳定性；并且钛白粉与低熔点玻璃粉、氧化锌、高熔点玻璃粉和添加剂的相互协同作用降低了Na |
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| 搜索关键词： | 一种 防止 组件 背板 pid 发黑 漫反射 玻璃 釉料 工艺 | ||
【主权项】：
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