[发明专利]一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺

权利要求书

1.一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺，其特征在于，制备原料包括：水性溶剂，无机色浆，无机链接料，气相二氧化硅，添加剂。

2.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，水性溶剂选自二乙二醇丁醚、二乙二醇叔丁醚、二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚中的一种或几种的组合。

3.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，无机色浆选自钛白粉、氧化铝、氧化锌、高熔点玻璃粉、亚钛粉、硫酸钡中的一种或几种的组合。

4.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，无机链接料为低熔点玻璃粉。

5.根据权利要求1所述的一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，制备原料以重量份计包括：水性溶剂为10-30份，无机色浆为30-40份，无机链接料30-40份，添加剂为5-25份，气相二氧化硅为0-0.5份。

6.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，添加剂包括水性增稠剂和水性分散剂。

7.根据权利要求6所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，水性增稠剂选自聚丙烯类增稠剂，聚氨酯类增稠剂，聚氧乙烯类增稠剂中的一种或几种的组合。

8.根据权利要求6所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，水性分散剂选自聚氨酯类、聚丙烯酸酯类水性高粘度分散剂中的一种。

9.根据权利要求6所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，添加剂以重量份计包括：水性分散剂为1-5份，水性增稠剂为5-20份。

10.一种根据权利要求1-9任一项所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料的工艺，包括以下步骤：

(1)在搅拌罐中按重量份加入水性溶剂，无机色浆，无机链接料，添加剂，气相二氧化硅，混合搅拌1-1.5h；

(2)使用陶瓷辊三辊机研磨1-2遍，出料辊间距设定为15-20微米；

(2)将步骤2得到的混合物使用200-300目的网板进行过滤，得到最终的玻璃釉料。