[发明专利]用于制造隔膜组件的方法在审
| 申请号： | 202110394988.4 | 申请日： | 2016-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN113156774A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 彼得-詹·范兹沃勒;D·德格拉夫;保罗·詹森;玛丽亚·皮特;M·A·范德柯克霍夫;威廉·琼·范德赞德;D·F·弗莱斯;W-P·福尔蒂森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/24;G03F1/62 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种用于EUV光刻术的隔膜，所述隔膜具有不大于200nm的厚度并且包括叠层，所述叠层包括：至少一个硅层；和至少一个硅化合物层，由硅和选自由硼、磷、溴组成的组中的元素的化合物组成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 隔膜 组件 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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