[发明专利]一种聚焦环有效
| 申请号： | 202110380411.8 | 申请日： | 2021-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN113205991B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 许正军;阚杰;曹春生;石生宝 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 罗雅文 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种聚焦环，涉及半导体制造领域。该聚焦环包括环体，所述环体的顶面宽度小于所述环体的底面宽度；在所述环体的内侧，所述顶面与所述底面之间设置有台阶面；所述台阶面的表面为粗糙面，所述台阶面的粗糙度范围为1.5μm至3.5μm；解决了目前晶圆固定在静电吸附盘上进行工艺制程时，颗粒缺陷影响产品良率和机台工作的问题；达到了提高晶圆良率、减少颗粒缺陷对工艺制程的不良影响的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚焦 | ||
【主权项】：
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