[发明专利]气体供应单元及包括其的衬底处理设备在审
| 申请号： | 202110371203.1 | 申请日： | 2021-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN113539775A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 金材玹;金大渊;李政镐;张显秀;全然孮 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/455;C23C16/505;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种能够防止功率耗散且实现高过程再现性的衬底处理设备包括分隔件和在分隔件下方的处理单元，其中处理单元包括导电本体和与导电本体一体地形成的至少一个导电突起。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 供应 单元 包括 衬底 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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