[发明专利]提高硅片表面清洗能力的洗净装置及其控制方法有效
| 申请号： | 202110361901.3 | 申请日： | 2021-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN113058926B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 戚定定 | 申请（专利权）人： | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B13/00 |
| 代理公司： | 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 | 代理人： | 沈相权 |
| 地址： | 311201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高硅片表面清洗能力的洗净装置及其控制方法，所属硅片洗净设备技术领域，包括清洗槽，所述的清洗槽上方设有上机架，所述的清洗槽内设有清洗组件，所述的清洗组件与上机架间设有升降气缸，所述的升降气缸与上机架间设有旋转电机。所述的清洗组件包括片盒，所述的片盒内设有若干呈等间距分布的硅片，所述的硅片上部两端设有与片盒呈一体化的上挡板，所述的硅片下部两端设有与片盒呈一体化的下挡板。具有结构简单、清洗效果好、运行稳定性高和使用寿命长的特点。解决了硅片表面存在被机械擦伤的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 硅片 表面 清洗 能力 洗净 装置 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
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